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Chemical-Mechanical Planarization of Semiconductor Materials: 69 (Springer Series in Materials Science, 69)
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Chemical-Mechanical Planarization of Semiconductor Materials: 69 (Springer Series in Materials Science, 69) - edizione con copertina flessibile

2010, ISBN: 9783642077388

Editor: Oliver, M.R. Springer, Paperback, Auflage: Softcover reprint of hardcover 1st ed. 2004, 439 Seiten, Publiziert: 2010-12-01T00:00:01Z, Produktgruppe: Book, Hersteller-Nr.: 298 blac… Altro …

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Chemical-Mechanical Planarization of Semiconductor Materials (Springer Series in Materials Science, 69, Band 69) - edizione con copertina flessibile

2010, ISBN: 9783642077388

Springer Berlin Heidelberg, Taschenbuch, Auflage: Softcover reprint of hardcover 1st ed. 2004, 440 Seiten, Publiziert: 2010-02-19T00:00:01Z, Produktgruppe: Buch, Hersteller-Nr.: 298 black… Altro …

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2010

ISBN: 9783642077388

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2010, ISBN: 3642077382

edizione con copertina rigida

Softcover reprint of hardcover 1st ed. 2004 Kartoniert / Broschiert Physikalische Chemie, Materialwissenschaft, Werkstoffprüfung, Fertigungstechnik und Ingenieurwesen, Elektronik, diele… Altro …

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Chemical-Mechanical Planarization of Semiconductor Materials - nuovo libro

ISBN: 9783642077388

Springer , pp. 442 . Papeback. New., Springer, 6

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Dettagli del libro
Chemical-Mechanical Planarization of Semiconductor Materials: 69 (Springer Series in Materials Science, 69)

This book contains a comprehensive review of CMP (Chemical-Mechanical Planarization) technology, one of the most exciting areas in the field of semiconductor technology. It contains detailed discussions of all aspects of the technology, for both dielectrics and metals. The state of polishing models and their relation to experimental results are covered. Polishing tools and consumables are also covered. The leading edge issues of damascene and new dielectrics as well as slurryless technology are discussed.

Informazioni dettagliate del libro - Chemical-Mechanical Planarization of Semiconductor Materials: 69 (Springer Series in Materials Science, 69)


EAN (ISBN-13): 9783642077388
ISBN (ISBN-10): 3642077382
Copertina rigida
Copertina flessibile
Anno di pubblicazione: 2010
Editore: Springer

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ISBN/EAN: 9783642077388

ISBN - Stili di scrittura alternativi:
3-642-07738-2, 978-3-642-07738-8
Stili di scrittura alternativi e concetti di ricerca simili:
Titolo del libro: mechanical materials, mechanica


Dati dell'editore

Autore: M.R. Oliver
Titolo: Springer Series in Materials Science; Chemical-Mechanical Planarization of Semiconductor Materials
Editore: Springer; Springer Berlin
428 Pagine
Anno di pubblicazione: 2010-12-01
Berlin; Heidelberg; DE
Stampato / Fatto in
Lingua: Inglese
213,99 € (DE)
219,99 € (AT)
236,00 CHF (CH)
POD
XI, 428 p.

BC; Hardcover, Softcover / Technik/Maschinenbau, Fertigungstechnik; Werkstoffprüfung; Verstehen; dielectrics; material; metals; reactions; semiconductor; semiconductor technology; Characterization and Analytical Technique; Electronics and Microelectronics, Instrumentation; Machines, Tools, Processes; Physical Chemistry; Surfaces, Interfaces and Thin Film; Optical Materials; Elektronik; Fertigungstechnik und Ingenieurwesen; Physikalische Chemie; Materialwissenschaft; Technische Anwendung von elektronischen, magnetischen, optischen Materialien; BB; EA

This volume is a comprehensive review of CMP (Chemical-Mechanical Planarization) technology, which is now a major part of state-of-the-art semiconductor technology. There are detailed discussions of all aspects of the technology, for both dielectrics and metals. The state of polishing models and their relation to experimental results are covered. Polishing tools and consumables are also covered. The leading edge issues of damascene and new dielectrics as well as slurryless technology are discussed.
Comprehensive book covering the technology of CMP for all semiconductor related materials, as well as the science and modelling of the various mechanisms Includes supplementary material: sn.pub/extras

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