- 5 Risultati
prezzo più basso: € 54,95, prezzo più alto: € 86,91, prezzo medio: € 70,39
1
INVESTIGATIONS ON MAGNETRON SPUTTERED TANTALUM OXIDE FILMS - S. V. Jagadeesh Chandra|S Uthanna|G Mohan Rao
Ordina
da AbeBooks.de
€ 86,91
Spedizione: € 0,001
Ordina
Dettagli del offerente
Link sponsorizzato
S. V. Jagadeesh Chandra|S Uthanna|G Mohan Rao:

INVESTIGATIONS ON MAGNETRON SPUTTERED TANTALUM OXIDE FILMS - edizione con copertina flessibile

2011, ISBN: 3843394229

[EAN: 9783843394222], Neubuch, [PU: LAP LAMBERT Academic Publishing], PHYSIK ASTRONOMIE REACTIVE MAGNETRON SPUTTERING THIN FILMS TANTALUM OXIDE STRUCTURE STOICHIOMETRY ELECTRICAL AND OPTI… Altro …

NEW BOOK. Costi di spedizione:Versandkostenfrei. (EUR 0.00) moluna, Greven, Germany [73551232] [Rating: 4 (von 5)]
Chiudere (X)
2
INVESTIGATIONS ON MAGNETRON SPUTTERED TANTALUM OXIDE FILMS - S. V. Jagadeesh Chandra S Uthanna G Mohan Rao
Ordina
da booklooker.de
€ 54,95
Spedizione: € 0,001
Ordina
Dettagli del offerente
Link sponsorizzato

S. V. Jagadeesh Chandra S Uthanna G Mohan Rao:

INVESTIGATIONS ON MAGNETRON SPUTTERED TANTALUM OXIDE FILMS - Prima edizione

2011, ISBN: 9783843394222

edizione con copertina flessibile

[ED: Kartoniert / Broschiert], [PU: LAP LAMBERT Academic Publishing], Dieser Artikel ist ein Print on Demand Artikel und wird nach Ihrer Bestellung fuer Sie gedruckt. Autor/Autorin: Jagad… Altro …

Costi di spedizione:Versandkostenfrei, Versand nach Deutschland. (EUR 0.00) Moluna GmbH
Chiudere (X)
3
INVESTIGATIONS ON MAGNETRON SPUTTERED TANTALUM OXIDE FILMS: Microelectronic device applications - Jagadeesh Chandra, S. V. Uthanna, S, Mohan Rao, G
Ordina
da amazon.de
€ 68,00
Spedizione: € 0,001
Ordina
Dettagli del offerente
Link sponsorizzato
Jagadeesh Chandra, S. V. Uthanna, S, Mohan Rao, G:
INVESTIGATIONS ON MAGNETRON SPUTTERED TANTALUM OXIDE FILMS: Microelectronic device applications - edizione con copertina flessibile

2011

ISBN: 9783843394222

LAP LAMBERT Academic Publishing, Taschenbuch, 188 Seiten, Publiziert: 2011-01-18T00:00:01Z, Produktgruppe: Buch, 0.63 kg, Astronomie, Naturwissenschaften & Technik, Kategorien, Bücher, In… Altro …

Costi di spedizione:Auf Lager. Lieferung von Amazon. (EUR 0.00) Amazon.de
Chiudere (X)
4
Ordina
da alibris.co.uk
€ 71,67
Ordina
Dettagli & spedizione
Link sponsorizzato
S V Jagadeesh Chandra:
Investigations on Magnetron Sputtered Tantalum Oxide Films Microelectronic Device Applications - edizione con copertina flessibile

2001, ISBN: 9783843394222

Softcover, PLEASE NOTE, WE DO NOT SHIP TO DENMARK. New Book. Shipped from UK in 4 to 14 days. Established seller since 2000. Please note we cannot offer an expedited shipping service from… Altro …

Costi di spedizione:Costi di spedizione aggiuntivi Fairford, GLOUCESTERSHIRE, Books2anywhere
Chiudere (X)
5
Investigations on Magnetron Sputtered Tantalum Oxide Films - S. V. Jagadeesh Chandra
Ordina
da AbeBooks.de
€ 70,40
Spedizione: € 1,741
Ordina
Dettagli del offerente
Link sponsorizzato
S. V. Jagadeesh Chandra:
Investigations on Magnetron Sputtered Tantalum Oxide Films - edizione con copertina flessibile

2011, ISBN: 3843394229

[EAN: 9783843394222], Neubuch, [PU: LAP Lambert Academic Publishing], PRINT ON DEMAND Book; New; Fast Shipping from the UK., Books

NEW BOOK. Costi di spedizione: EUR 1.74 Ria Christie Collections, Uxbridge, United Kingdom [59718070] [Rating: 5 (von 5)]
Chiudere (X)
1Poiché alcune piattaforme non trasmettono le condizioni di spedizione e queste possono dipendere dal paese di consegna, dal prezzo di acquisto, dal peso e dalle dimensioni dell'articolo, dall'eventuale iscrizione alla piattaforma, dalla consegna diretta da parte della piattaforma o tramite un fornitore terzo (Marketplace), ecc. è possibile che le spese di spedizione indicate da eurolibro non corrispondano a quelle della piattaforma offerente.

Dati bibliografici del miglior libro corrispondente

Dettagli del libro
INVESTIGATIONS ON MAGNETRON SPUTTERED TANTALUM OXIDE FILMS: Microelectronic device applications
Autore:
Titolo:
ISBN:

9783843394222


High permittivity dielectrics are studied intensively in the view of their use in the integrated circuits. However, the real emergence of tantalum oxide (Ta2O5) as a dielectric material happened due to its high-dielectric constant, chemical and thermal stability with the promise of compatibility in microelectronic processing. This book covenants with the optimized deposition conditions of Ta2O5 films formed on quartz and p-type Si substrates using dc and rf reactive magnetron sputtering method for structural and optical studies. Further, aluminum metal deposited as a top electrode on Ta2O5 and Si stack to prepare metal oxide semiconductor device for investigating electrical and dielectric properties. The possible ways for depositing good quality Ta2O5 layers on Si, to obtain high dielectric constant explained in this book are quite useful to prepare high quality metal oxide semiconductor device for capacitor applications.

Informazioni dettagliate del libro - INVESTIGATIONS ON MAGNETRON SPUTTERED TANTALUM OXIDE FILMS: Microelectronic device applications


EAN (ISBN-13): 9783843394222
ISBN (ISBN-10): 3843394229
Copertina rigida
Copertina flessibile
Anno di pubblicazione: 2011
Editore: LAP LAMBERT Academic Publishing

Libro nella banca dati dal 2009-08-09T09:58:23+02:00 (Zurich)
Pagina di dettaglio ultima modifica in 2023-07-16T07:15:43+02:00 (Zurich)
ISBN/EAN: 9783843394222

ISBN - Stili di scrittura alternativi:
3-8433-9422-9, 978-3-8433-9422-2
Stili di scrittura alternativi e concetti di ricerca simili:
Autore del libro : mohan
Titolo del libro: magnetron, tantalum

Altri libri che potrebbero essere simili a questo:

Ultimo libro simile:
INVESTIGATIONS ON MAGNETRON SPUTTERED TANTALUM OXIDE FILMS (S. V. Jagadeesh Chandra, S Uthanna, G Mohan Rao,,)

< Per archiviare...