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Sadiq, M: Shallow tempering of materials - edizione con copertina flessibile

2010, ISBN: 9783838389455

This work evaluates the performance of a Mather type plasma focus device in connection with its use as a surface modification tool. It is shown that the device can be used for surface mod… Altro …

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Shallow tempering of materials - edizione con copertina flessibile

2010, ISBN: 383838945X

[EAN: 9783838389455], Neubuch, [PU: LAP LAMBERT Academic Publishing], PHYSIK ASTRONOMIE PLASMA FOCUS SURFACE MODIFICATION RAMAN SPECTROSCOPY X-RAY DIFFRACTION HARDNESS, Dieser Artikel ist… Altro …

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2010

ISBN: 9783838389455

LAP LAMBERT Academic Publishing, Taschenbuch, 140 Seiten, Publiziert: 2010-07-26T00:00:01Z, Produktgruppe: Buch, 0.48 kg, Astronomie, Naturwissenschaften & Technik, Kategorien, Bücher, In… Altro …

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2010, ISBN: 9783838389455

LAP LAMBERT Academic Publishing, Taschenbuch, 140 Seiten, Publiziert: 2010-07-26T00:00:01Z, Produktgruppe: Buch, 0.48 kg, Astronomie, Naturwissenschaften & Technik, Kategorien, Bücher, In… Altro …

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Shallow tempering of materials Applications of pulsed plasma streams from a plasma focus device for surface modification of Al, Si and PTFE - nuovo libro

2010, ISBN: 383838945X

Kartoniert / Broschiert Physik, mit Schutzumschlag 11, [PU:LAP LAMBERT Academic Publishing]

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Dati bibliografici del miglior libro corrispondente

Dettagli del libro
Shallow tempering of materials: Applications of pulsed plasma streams from a plasma focus device for surface modification of Al, Si and PTFE
Autore:
Titolo:
ISBN:

9783838389455


This work evaluates the performance of a Mather type plasma focus device in connection with its use as a surface modification tool. It is shown that the device can be used for surface modification of different classes of solids (aluminium, silicon and PTFE). The surface hardening of aluminium is achieved through nitrogen ion implantation. The surface hardness of the ion implanted specimens is found to improve by 300 % by the formation of cubic aluminium nitride phase. Argon and nitrogen ion implantation are used to achieve amorphization of the crystalline silicon. Additionally, the device is employed to deposit thin films of aluminium nitride on silicon substrates. The films are observed to have a strong c-axis alignment but under compressive stress. The crystallinity of the PTFE is found to be enhanced under the action of nitrogen ion irradiation.

Informazioni dettagliate del libro - Shallow tempering of materials: Applications of pulsed plasma streams from a plasma focus device for surface modification of Al, Si and PTFE


EAN (ISBN-13): 9783838389455
ISBN (ISBN-10): 383838945X
Copertina rigida
Copertina flessibile
Anno di pubblicazione: 2010
Editore: LAP LAMBERT Academic Publishing
140 Pagine
Peso: 0,225 kg
Lingua: eng/Englisch

Libro nella banca dati dal 2009-11-15T18:24:07+01:00 (Zurich)
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ISBN/EAN: 9783838389455

ISBN - Stili di scrittura alternativi:
3-8383-8945-X, 978-3-8383-8945-5
Stili di scrittura alternativi e concetti di ricerca simili:
Autore del libro : sadiq
Titolo del libro: plasma focus, ptfe

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